1.高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。下图是合成具有特殊功能高分子材料W( )的流程:
已知:(R、R1、R2代表烃基)Ⅰ. RCH2OH
Ⅱ. +R2OH +R1COOH
(1)反应①的反应类型是 。
(2)反应②是取代反应,其化学方程式是 。
(3)D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1∶3,不存在顺反异构。D的结构简式是 。
(4)反应⑤的化学方程式是 。
(5)G的结构简式是 。
(6)反应⑥的化学方程式是 。
(7)工业上也可用 合成E。由上述①~④的合成路线中获取信息,完成下列合成路线(箭头上注明试剂和反应条件, 不易发生取代反应)。
…… E
2.有机高分子材料M的结构简式为 ,下图是由有机物A(分子式为C5H8O)和苯甲醛为原料生产该有机物的合成路线。
已知:①A分子中有两种不同环境的氢原子②CH3CH2CH CH2 CH3CHBrCH CH2
CH3CHO+CH3CHO CH3CH CHCHO+H2O
请回答以下问题:
(1)A的结构简式为 ,B的名称为 ,F中所含官能团的名称是 。
(2)①和③的反应类型分别是 、 ;反应②的反应条件为 。
(3)反应④的化学方程式为 。
(4)有机物E有多种同分异构体,其中同时符合下列条件的同分异构体有 种。
①属于芳香酯类 ②其酸性水解产物遇FeCl3显紫色
(5)以1-丙醇和NBS为原料可以制备聚丙烯醇( )。请设计合成路线(其他无机原料任选)并用如下方式表示。A B…… 目标产物
3.环丁基甲酸是重要的有机合成中间体,其一种合成路线如下:
回答以下问题:
(1)A属于烯烃,其结构简式为 。
(2)B→C的反应类型是 ,该反应生成的与C互为同分异构体的副产物是 (写结构简式)。
(3)D的结构简式为 ,E的化学名称是 。
(4)写出同时满足下列条件的G的所有同分异构体 (写结构简式,不考虑立体异构)。 ①核磁共振氢谱为3组峰;②能使溴的四氯化碳溶液褪色;③1 mol该同分异构体与足量饱和NaHCO3溶液反应产生88 g气体。
(5)H的一种同分异构体为丙烯酸乙酯
(CH2 CH—COOC2H5),写出聚丙烯酸乙酯在NaOH溶液中水解的化学方程式 。
(6)参照上述合成路线,以 和化合物E为原料(无机试剂任选),设计制备 的合成路线。
4.A是一种重要的食用香料,以A为原料制备阴离子树脂M和新型聚酯材料N等的合成路线如下: